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激光粒度仪的那些技术特点是怎样的 激光粒度仪常见问题解决方法

时间:2020-07-01    来源:仪多多仪器网    作者:仪多多商城     
【导读】激光粒度仪,该系列产品采用国际先进技术,结合自我优势,经过科研人员精心研制而成; 具有如下特点: (1)功能强大的软件系统 采用了世界zui先进的微电



    激光粒度仪,该系列产品采用国际先进技术,结合自我优势,经过科研人员精心研制而成;


    具有如下特点:


    (1)功能强大的软件系统


    采用了世界zui先进的微电子集成电路技术,配以先进的机械设计与加工工艺;


    使全自动激光粒度分布仪内置的搅拌系统、超声系统、循环系统、进水系统、排水系统、光路系统、采样系统完美的结合在一起,通过专用的计算机软件实现自动化操作规程(SOP)。


    (2)独特的双进样系统


    有微量样品池与循环样品池两种进样方式,微量样品池是针对一些需要用有机溶剂做介质的样品而特殊设计;


    循环样品池通常用于测试水做介质的样品,而且这两种进样方式无须调换,使用非常方便


    (3)内置超声分散系统


    超声分散系统具有输出功率30W与50W可调,超声时间可调功能;


    可跟具不同硬度和细度的粉体选择超声功率与超声时间;


    防止功率过大时间过长把颗粒打碎或功率过小时间过短起不到把粉体分散成单颗粒状。


    (4)自动清洗系统


    自动进水与自动排水系统可以实现对循环池进行自动清洗的功能免去了人为清洗所带来的很多麻烦,使化验员工作量有很大的降低。


    (5)内置循环系统


    循环系统采用了蠕动泵的方式,不会对样品产生任何污染,保证了测试数据的准确性。


    (6)高灵敏大角度光电接收器阵列


    独特的光电接收器阵列设计,有效提高了仪器的分辨率。


    其中主向光电接收器共有71个光电池,zui大探测角达21.5°;


    非均匀交叉排列的侧向光电接收器,共5个光电池,zui大侧向角达75°。


    (7)独特的光路一体化技术


    优化的反傅立叶光学变换设计,结合独特的光路一体化结构,使光路更加稳定,长期使用,无须调整;


    先进的机械设计与加工工艺,使仪器的结构更紧凑合理;


    流线型的设计,美观大方,使用与维护更为方便;有效的屏蔽与抗


    干扰技术,使仪器的电气等性能更加稳定。


    (8)长久耐用


    采用波长635nm,功率3mw半导全激光器,使用寿命在25000个小时以上有效提高了激光粒度分布仪的使用和存放时间。


    (9)优秀的H.Golub分布反演算法


    激光粒度测试系统完全采用先进的全Mie散射理论作为基础;


    并采用优良的H.Golub分布反演算法,结合独特的仪器硬件设计;


    使您测试的样品无论是单分布的,还是混合的,都能够使测试数据更加精确、快捷。


    (10)输出结果格式灵活


    报告单格式的输出格式灵活,可根据使用者的需要;


    编辑包括累计粒度分布数据与曲线、区间粒度分布数据与直方图、各种典型粒径值等内容。


    (11)符合国际标准ISO13320-1


    为了满足用户对测试结果的准确性及重复性等可追踪性的要求,激光粒度分布仪完全符合ISO13320-1国际标准。


    每台激光粒度仪都严格经国家标准物质的检验,各项指标完全合格后方可投入市场。





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阅读:97发布时间:2017/7/10

1镜头和测试窗口玻璃污染

光学仪器的镜头污染是常见故障。激光粒度仪作为粉体检测设备,常常会面对多尘环境,测试窗口镜片则是会直接接触粉体样品的光学器件。聚焦透镜或者准直透镜等光学镜片受到使用环境中的浮尘污染或者发生霉菌污染,会使纯净的测量光束产生杂散光。这些杂散光会混入样品的散射光中干扰测试;测量窗口镜片上的污染物则会直接产生较强的散射光。

因此,光学镜片污染是激光粒度仪测试结果漂移的首要元凶。应对办法主要是尽量让仪器处于干燥无尘的工作环境。经常按照操作规程清洗镜片,保证光学镜片的清洁。

 

2激光光路偏移

激光器是会发热的器件,工作周期内,它们会周而复始的发热-降温-发热。任何物体都会有热胀冷缩现象,几何尺寸会随温度变化而变化。而激光粒度仪光路装配精度要求非常高,随着仪器使用周期延长,光路几乎不可避免的会出现偏移现象。光路偏移,会导致测量光束光能衰减、探测器排布角度发生漂移,从而导致测量数据漂移。

应对这个问题主要靠仪器制造商从仪器设计上尽量减少出现光路偏移的可能性,同时定期校准光路也是非常重要的办法。

 

3进样系统的循环、分散效能波动

这个环节导致的数据漂移比较隐蔽,所以容易被忽视。样品循环系统使用的介质特性、介质流速(干法仪器而言则是气压和气流量)、超声分散设备的工况、水泵转速这几个要点会明显影响测试数据,需要细心关注。应对这些问题的主要办法或者方法如下:

1.关注测试用水的质量,特别是那些以自来水为介质的用户。

2.干法仪器用户则需定期检查和维护保养空压机,空气过滤装置,收尘装置。保证分散样品的高压空气质量。

3.关注超声分散设备功率输出是否正常。

4.观察进样器的运转情况,发现有转速波动情况,及时维护。

 

4光电探测器及其放大电路参数漂移

这类问题应该属于仪器制造质量水平问题,,一般来说任何电子电路和光电探测器都有工况漂移问题,差别只是漂移量不同。这类问题通常仪器用户自己是无法解决的,需要仪器制造商对仪器进行专门的电路工况系数校准。某些高水平的仪器,能够自行校准自身电路工况漂移。

 

5测量参数、测量条件变动

分析模型、样品测量参数、测试环境(例如湿度、测试介质温度等)都有可能影响测试数据。我们首先要保证测试的分析模型、样品测量参数(特别是样品折射率)选择正确。测试环境的影响,视不同样品和仪器工作环境不同,影响也差别很大,很难简单举例说明。需要具体情况具体分析。

 

6其它类特殊情况影响

1.镜片结雾问题。这个问题通常发生在春季潮湿季节或者是使用地下水做测试的用户。测量窗口镜片温度远低于室温时,很容易结雾。这个是固有的物理现象,只能是提高测试介质温度来解决。

2.激光器老化,导致光能波动大。这种情况需要更换激光器。

3.分散剂过期失效,这个问题比较隐蔽,但是也偶有遇到。应对办法当然是关注分散剂保存环境及其保质期限

关于激光粒度仪的适用介绍

    激光粒度仪采用动态光散射原理检测分析颗粒系的粒度及粒度分布。适用于检测悬浮在水相和有机相的颗粒物。

    1、磨料。

    磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、钻孔、成形以及抛光。

    磨料是在力的作用下实现对硬度较低材料的磨削。磨料的质量取决于磨料的粗糙度和颗粒的均匀性。

    2、乳剂。

    乳剂是两种互不相溶的液体经乳化制成的非均匀分散体系,通常是水和油的混合物。乳剂有两种类型,一种是水分散在油中,另一种是油分散在水中。

    常见的乳剂制品有牛奶(水包油型)和黄油(油包水型),加工过程中它们均需均质化处理到所需的粒径大小以期延长保质期。

    3、陶瓷。

    陶瓷在工业中的应用非常广泛,从砖瓦到生物医用材料及半导体领域。在生产加工过程中监测陶瓷颗粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制zui终产品的性能和质量。

    4、粘土。粘土是一种含水细小颗粒矿物质天然材料。粉砂与粘土类似,但粉沙的颗粒比粘土大。

    粘土中易于混杂粉砂从而降低粘土的等级和使用性能。ISO14688定义粘土的颗粒小于63μm。

    5、涂料。涂料种类繁多,用途广泛。涂料的颗粒大小及粒度分布直接影响涂料的质量和性能。

    6、污染监测。

    粒度检测分析在产品的污染监测方面起着重要作用,产品的污染对产品的质量影响巨大。

    绝大多数行业都有相应的标准、规程或规范,必须严格遵守和执行,以保证产品满足质量要求。

    7、化妆品。无论是普通化妆品还是保湿剂、止汗剂,它们的性能都直接与粒度的大小和分布有关。

    化妆品的颗粒大小会影响其在皮肤表面的涂抹性能、分布均匀性能以及反光性能。

    保湿乳液(一种乳剂)的粒度小于200纳米时才能被皮肤良好吸收,而止汗剂的粒度只有足够大时才能阻塞毛孔起到止汗的作用。

    8、食品。

    食品的原料(粉末及液体)通常来源于不同的加工厂,不同来源的原料必须满足某些特定的标准以使zui终制品的质量均一稳定。

    原料性质的任何波动都会对食品的口味和口感产生影响。

    用原料的粒度分布作为食品质量保证和质量控制(QA/QC)的一个指标可确保生产出质量均以稳定的食品制品。

    9、液体工作介质/油。液体工作介质(如:油)越来越昂贵,延长液体介质的寿命是目前普遍关心的问题。

    机械设备运转过程中会产生金属屑或颗粒落入工作介质中(如:油浴润滑介质或液力传递介质),因此需要一种方法来确定介质(油)的更换周期。

    通过监测工作介质(油)中颗粒的分布和变化可以确定更换工作介质的周期以及延长其使用寿命。

    10、墨水。

    随着打印机技术的不断发展,打印机用的墨水变得越来越重要。

    喷墨打印机墨水的粒度应当控制在一定的尺度以下,且分布均匀,大的颗粒易于堵塞打印头并影响打印质量。

    墨水是通过研磨方法制得的,可用粒度检测分析仪器设备监测其研磨加工过程,以保证墨水的颗粒粒度分布均匀,避免产生聚集的大颗粒。

    11、胶束。

    胶束是表面活性剂在溶液中的浓度超过某一临界值后,其分子或离子自动缔合而成的胶体尺度大小的聚集体质点微粒,这种胶体质点与离子之间处于平衡状态。

    12、化学机械抛光(CMP)。

    化学机械抛光是半导体制造加工过程中的重要步骤。化学机械抛光液是由腐蚀性的化学组分和磨料(通常是氧化铝、二氧化硅或氧化铈)两部分组成。

    抛光过程很大程度上取决于晶片表面构型。晶片的加工误差通常以埃计,对晶片质量至关重要。抛光液粒度越均匀、不聚集成胶则越有利于化学机械抛光加工过程的顺利进行。

标签: 激光粒度仪
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