等离子体原子发射光谱仪利用氩等离子体产生的高温使用试样完全分解形成激发态的原子和离子;
由于激发态的原子和离子不稳定，外层电子会从激发态向低的能级跃迁，因此发射出特征的谱线。
通过光栅等分光后，利用检测器检测特定波长的强度，光的强度与待测元素浓度成正比。
等离子体原子发射光谱仪主要特点：
1）分析流程全自动化控制，实现软件点火、气路智能控制功能；
2) 输出功率自动匹配调谐，功率参数程序设定；
3) 优良的光学系统，先进的控制系统，保证峰位定位准确，信背比优良；
4）极小的基体效应，具有较高的谱线分辨率 能分出Hg313.154和313.183nm双线谱线 能分出铁的四重峰
5）测量范围宽， 超微量到常量的分析,动态线性范围5—6个数量级；
6）Rf输出功率的范围750-1500W，输出功率稳定性小于0.1%，检出限低，大多数元素的检出限可达ppb级；
7）光电倍增管的负高压可在0-1000v范围内独立可调,可根据不同元素的不同谱线单独设置条件，和全谱仪器比较有更好的检出限。
8）良好的测量精度，稳定性相对标准偏差RSD≤1.5%，优于A级标准；
9）功能强大、友好的人机界面分析软件,可在测定过程中，进行数据处理，方法编制和结果分析，是真正的多任务工作软件；
该软件数据处理功能强大，提供了多种方法，如内标校正、IECS和QC监测功能等，可获得较佳的背景扣除点以消除干扰；
对输出数据可直接打印或自动生成Excel格式的结果报告，终身免费升级.
10）使用钹铜弹片和特殊处理的屏蔽玻璃，在吸收紫外线同时使仪器辐射小于2V/m。
采用高屏蔽和良好接地保证操作者的安全。
X射线荧光分析是确定物质中微量元素的种类和含量的一种方法，又称X射线次级发射光谱分析，是利用原级X射线光子或其它微观粒子激发待测物质中的原子，使之产生次级的特征X射线（X光荧光）而进行物质成分分析和化学态研究。
X荧光光谱仪（XRF）由激发源（X射线管）和探测系统构成。X射线管产生入射X射线（一次X射线），激发被测样品，产生X荧光（二次X射线），探测器对X荧光进行检测。
技术原理：
元素的原子受到高能辐射激发而引起内层电子的跃迁，同时发射出具有一定特殊性波长的X射线，根据莫斯莱定律，荧光X射线的波长与元素的原子序数有关。
根据量子理论，X射线可以看成由一种量子或光子组成的粒子流，每个光具有的能量。因此,只要测出荧光X射线的波长或者能量,就可以知道元素的种类，这就是荧光X射线定性分析的基础。此外,荧光X射线的强度与相应元素的含量有一定的关系，据此，可以进行元素定量分析
产品应用：
X荧光光谱分析在各行业应用范围不断拓展，已成为一种广泛应用于冶金、地质、有色、建材、商检、环保、卫生等各个领域，特别是在RoHS检测领域应用得较多也广泛,它已然成为这些领域的常用检测设备了。
1、直读光谱仪实用工作曲线的确定
根据工厂冶炼情况，合金元素的含量范围不同，确保分析精密度，须采用不同钢种标钢分别制作工作曲线。做工作曲线的标钢数量应该满足分析合金的需要。
由于分析试样是从炉中快速取样，与标准样品的组织结构、冶金履历不一致，为了消除可能产生的偏高或偏低的系统误差可采用控制试样法。一般组织结构的不同不会使工作曲线斜率改变，大体上只有平行移动。因此用和分析试样的组织结构和冶金履历一致的控制试样来校正曲线的上下平移，能减少系统误差。
2、直读光谱仪选好控制试样
光电光谱分析大都采用控制试样法，这就会遇到有关控制标钢来源、化学成分的确定及使用等一系列问题。对一些新开展光电光谱分析工作的单位尤需注意。
初开展工作中，可以在生产中选取一些样品，经可靠的化学分析方法多次分析，得到准确结果作为控制试样。用此样控制作光谱的试样分析，同时与化学分析进行对照(这个阶段叫平行分析。积累一批数据以后，验证相互偏差不大，光谱分析便可正式投产)。
高低标样，控制样品中的低含量元素，单靠从生产中选取是远远不能满足生产需要的，可以从轧材中选取和进行专门冶炼。
不论是生产中、轧材中和专门冶炼得到的控制标钢，必须事先进行均匀性检查、化学分析和平行分析对照阶段。在炉中分析时，应尽量选用同钢种的标样做控制分析，其元素成份和含量范围要接近被分析试样。
3、直读光谱仪分析试样操作
分析试样经切割以后、要磨去表面氧化层，用研磨机磨样时，试样和标钢要同时操作，要力求操作一致，用力过大则易使表面氧化。磨纹要求一致，不应有交叉纹。试样磨后不宜放置过长，否则造成试料表面氧化，影响分析结果。一般可采用A12O3中软，粒度为360的砂轮片磨样，此外也可用砂纸或砂轮磨样。
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