真空镀膜机的均匀性介绍
真空镀膜机的厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好;可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。
但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也是说要实现10A甚至1A的表面平整。
真空镀膜机在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学;
那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。
真空镀膜机的晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。
真空镀膜机的操作程序
①检查真空镀膜机各操作控制开关是否在鈥樄位置。
②打开总电源开关，设备送电。
③低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
④安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。
⑤落下钟罩。
⑥启动抽真空机械泵。
⑦开复合真空计电源
a.左旋钮“1”顺时针旋转至指向2区段的加热位置。
b.低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至110mA时，左旋钮鈥旋转至指向2区段测量位置。
⑧当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
⑨真空镀膜机开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。
⑩低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。
低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀(阀杆顺时针旋转)。
等低真空表“2”内指针右移动至0.1Pa时，开规管灯丝开关。
a.发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。
b.左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。
真空镀膜机的操作步骤
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类;
包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
电控柜操作
1.开水泵、气源。
2.开总电源。
3.开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。
4.开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。
5.观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。
机器操作
1.总电源。
2.同时开电子枪控制Ⅰ和电子枪控制Ⅱ电源：
按电子枪控制Ⅰ电源、延时开关，延时、电源及保护灯亮，三分钟后延时及保护灯灭，若后门未关好或水流继电器有故障，保护灯会常亮。
3.开高压，高压会达到10KV以上，调节束流可到200mA左右，帘栅为20V/100mA，灯丝电流1.2A，偏转电流在1~1.7之间摆动。
关机顺序
1.关高真空表头、关分子泵。
2.待分子泵显示到50时，依次关高阀、前级、机械泵，这期间约需40分钟。
3.到50以下时，再关维持泵。
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